等離子清洗機(jī)常用的工藝氣體有氧氣 、氬氣 、氮氣、壓縮空氣 、二氧化碳 、氫氣、四氟化碳等。它是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對工件進(jìn)行表面處理,無論是進(jìn)行清洗還是表面活化,為達(dá)到最佳的處理效果會選用不同的工藝氣體,那么等離子清洗機(jī)的常用工藝氣體又該如何選擇呢?

 1.氧氣

       氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學(xué)的處理方式,電離后產(chǎn)生的離子體能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理轟擊,形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成活性基團(tuán)的親水表面,達(dá)到表面活化的目的;被斷鍵后的有機(jī)污染物的元素會與高活性的氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成CO、CO2、H2O等分子結(jié)構(gòu)脫離表面,達(dá)到表面清洗的目的。

      氧氣主要應(yīng)用于高分子材料表面活化及有機(jī)污染物去除,但不適用于易氧化的金屬表面。真空等離子狀態(tài)下的氧等離子呈現(xiàn)淡藍(lán)色,部分放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線比較亮,肉眼觀察時可能會出現(xiàn)看不到真空腔體內(nèi)有放電的情況。

2.氬氣

       氬氣是一種惰性氣體,電離后產(chǎn)生的離子體不會與基材發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在等離子清洗中主要被應(yīng)用于基材表面的物理清洗及表面粗化,最大的特點就是在表面清洗中不會造成精密電子器件的表面氧化。正因如此,氬等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體、微電子、晶圓制造等行業(yè)被廣泛應(yīng)用。

      氬氣在真空等離子清洗機(jī)中被電離所產(chǎn)生的等離子體呈暗紅色。在相同的放電環(huán)境下,氫氣和氮氣所產(chǎn)生的等離子體顏色都是呈紅色,但氬等離子體的亮度會低于氮氣且高于氫氣,還是比較好區(qū)分的。

1)表面清洗

       在晶圓、玻璃等產(chǎn)品的表面Particle去除的工藝中,通常都是采用Ar等離子體對表面Particle進(jìn)行轟擊,以達(dá)到Particle被打散、松動(與基材表面脫離)的效果,再配合超聲波清洗或離心清洗等工藝,將表面的Particle進(jìn)行去除。特別是在在半導(dǎo)體封裝工藝中,完成打線工藝后為防止導(dǎo)線氧化,都是采用氬等離子體或氬氫等離子體進(jìn)行表面清洗。

2)表面粗化

        等離子清洗機(jī)的表面粗化又稱表面刻蝕,其目的是提升材料表面的粗糙度,以增加粘接、印刷、焊接等工藝結(jié)合力,經(jīng)氬等離子清洗機(jī)處理后的表面張力會明顯提升?；钚詺怏w所產(chǎn)生的等離子體也可以增加表面的粗糙度,但氬氣電離后產(chǎn)生的粒子相對較重,氬離子在電場的作用下的動能會明顯高于活性氣體,所以其粗化效果會更加明顯,在無機(jī)物基材表面粗化工藝中應(yīng)用最為廣泛。如玻璃基材表面處理、金屬基材表面處理等。

3)活性氣體輔助

       在等離子清洗機(jī)的活化和清洗工藝中,工藝氣體經(jīng)常被混合使用,以達(dá)到更佳的效果。因為氬氣的分子比較大,電離后產(chǎn)生的粒子比較后,在進(jìn)行表面清洗和活化時通常會配合活性氣體混合使用,最常見的就是氬氣和氧氣的混合。氧氣為高活性氣體,可有效地對有機(jī)污染物或有機(jī)基材表面進(jìn)行化學(xué)分解,但其粒子相對較小,斷鍵和轟擊能力有限,如加上一定比例的氬氣,那么所產(chǎn)生的等離子體對有機(jī)污染物或有機(jī)基材表面的斷鍵和分解能力就會更強(qiáng),加快清洗和活化的效率。

     氬氣與氫氣混合應(yīng)用在打線和打鍵工藝中,除增加焊盤粗糙度外,還可以有效去除焊盤表面的有機(jī)污染物,同時對表面的輕微氧化進(jìn)行還原,在半導(dǎo)體封裝和SMT等行業(yè)中被廣泛應(yīng)用。

3.氫氣

4.氮氣

       氮氣電離形成的等離子體能夠與部分分子結(jié)構(gòu)發(fā)生鍵合反應(yīng),所以也是一種活性氣體,但相對于氧氣和氫氣而言,其粒子比較重,通常情況下在等離子清洗機(jī)應(yīng)用中會把此氣體界定在活性氣體氧氣、氫氣與惰性氣體氬氣之間的一種氣體。在清洗活化的同時能夠達(dá)到一定轟擊、刻蝕的效果,同時能夠防止部分金屬表面出現(xiàn)氧化。氮氣與其他氣體組合形成的等離子體通常會被應(yīng)用于一些特殊材料的處理。真空等離子狀態(tài)下氮等離子也是呈紅色,在相同的放電環(huán)境下,氮等離子會比氬等離子和氫等離子更亮一些。

5.四氟化碳

       四氟化碳在電離之后的等離子體含有氫氟酸，是一種能夠用于刻蝕和有機(jī)物去除的腐蝕性氣體，能夠?qū)€路板的微孔進(jìn)行除膠處理或者一些精密材料的納米級刻蝕。