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  • PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機(jī)

    PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁， 有幾種不同的電極設(shè)計(jì)，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤(pán)電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)：5932
    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
    更新日期：2024-05-16
  • PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100

    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計(jì)算機(jī)控制，多級(jí)程序控制和組件控制，操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)：6125
    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
    更新日期：2024-05-16
  • PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統(tǒng)

    PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置，可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)：2156
    產(chǎn)品價(jià)格：面議
    廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
    更新日期：2024-05-16
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