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光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關內(nèi)容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個指標，分辨率、靈敏度和缺陷率是與涂膠顯影的工藝精度有重要。顯影過程是將曝光后的光刻膠中與紫外光發(fā)生化學反應的部分除去或保留下來的過程。顯影的主要過程如下：對準曝光→曝光后烘→顯影→堅膜→顯影檢測。1對準曝光（AlignmentａndExposure）對準曝光階段是光刻工藝的重要階...

目前，MEMS發(fā)展迅速，已廣泛應用于醫(yī)療、軍事、航空、航天、汽車工業(yè)等領域。MEMS種類繁多，如MEMS傳感器、MEMS執(zhí)行器和光MEMS等，而各種薄膜在MEMS制造加工工藝中充當了重要角色。根據(jù)MEMS加工工藝需要，往往需要制作各種不同厚度的薄膜，薄膜厚度對工藝、后成型的器件性質(zhì)有至關重要的影響。隨著薄膜厚度的變化其性質(zhì)往往也出現(xiàn)不同，精確測量各種功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工領域有非常重要的意義。下面小編來介紹幾種測量薄膜厚度的方法研究和對比：01接觸式表面輪廓儀利用...

單模波導樹脂ZPU12,13-RI和LFR系列光活性UV可固化樹脂基于全氟丙烯酸酯。它們設計用于光波導器件和光通信中使用的光學薄膜的應用。這些涂料樹脂具有優(yōu)異的特性，例如低光學損失，低雙折射和優(yōu)異的環(huán)境穩(wěn)定性。通過與標準聚合物溶液共混以滿足各種波導結(jié)構(gòu)中的使用需求，可以輕松實現(xiàn)對折射率的精確和連續(xù)控制。為了獲得最佳的薄膜質(zhì)量，應在紫外線照射期間建議使用氮氣環(huán)境。產(chǎn)品規(guī)格型號-ExguideLFR-RI系列-ExguideZPU12,13-RI系列特征-UV固化型-低光損耗-環(huán)...

背景技術在各類光學有關的檢測中經(jīng)常需要在兩個光學器件之間添加折射率匹配液以消除結(jié)合處界面對光學性能帶來的影響。以光通信領域為例，近年我國寬帶接入和光纖到戶的發(fā)展使平面光波導芯片產(chǎn)品的需求量猛增。平面光波導就是在晶圓平面上利用不同物質(zhì)的光折射率制造出光波傳導通路，并完成過去由多個單一光器件才能實現(xiàn)的特定光通信功能的技術。測試平面光波導芯片時，會將芯片與其他光學器件如光纖、光纖陣列等連接起來，為了避免光在這些連接點位置出現(xiàn)強度、偏振態(tài)變化等光學性質(zhì)的變化，通常會在這些連接點之間點...

鋰離子動力電池在制作過程中，壓實密度對電池性能有較大的影響。通過實驗證明，壓實密度與片比容量，效率，內(nèi)阻，以及電池循環(huán)性能有密切的關系。找出*佳壓實密度對電池設計很重要。一般來說，壓實密度越大，電池的容量就能做的越高，所以壓實密度也被看做材料能量密度的參考指標之一。壓實密度不光和顆粒的大小、密度有關系，還和粒子的級配有關系，壓實密度大的一般都有很好的粒子正態(tài)分布?？梢哉J為，工藝條件一定的條件下，壓實密度越大，電池的容量越高。合適的正極壓實密度可以增大電池的放電容量，減小內(nèi)阻，...

Dake壓片機分為單沖壓片機和旋轉(zhuǎn)式壓片機是兩種常見的壓片設備。單沖壓片機由于價格低廉、操作方便、結(jié)構(gòu)簡單受到了實驗室、研究所、大專院校等研究人員的歡迎，然而由于單沖壓片機存在諸多的不足，最終導致實驗室獲得的結(jié)果與車間實際使用的旋轉(zhuǎn)式壓片機壓制的結(jié)果差異很大，無法將實驗室的試驗數(shù)據(jù)直接復制用于實踐生產(chǎn)。Dake壓片機的使用注意事項：1、機器設備上的防護罩、安全蓋等的裝置不要拆除,使用時應裝妥。2、沖模需經(jīng)嚴格探傷試驗和外形檢查,要無裂縫、變形、缺邊,硬度適宜和尺碼準確的,如不...

NXQ4006光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。通俗易懂的說，光刻機就是在制造芯片時*的工具，沒有光刻機就沒有芯片。NXQ4006光刻機工作過程詳細介紹1.打開NXQ4006光刻機電源開關，（右表板上標有“電源”字的開關），燈亮，氣壓表顯示數(shù)值。此時檢查左表板上的“系統(tǒng)真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否則要檢查漏氣原因并消...